Zeit: Mittwoch 9:30- 14:00 Uhr, Ort: LW 226 Credits: 10 (6+4)

In diesen Kurs ist eine Werkstattpraxis in der Siebdruckwerkstatt unter Betreuung von Jens Tix zu den Themen: »Technik, Filmherstellung, Form, Farbe, Experimente, Rapport und Textildruck« mit zusätzlichen 4CR integriert._

Kursbeschreibung: Muster, Ornament und Rapport – Es wird der Frage nachgegangen, wo Muster zum Einsatz kommen, wie sich Muster und Ornamente kulturgeschichtlich entwickelt haben und wie Muster generiert werden. Die theoretische Auseinandersetzung findet über Referate statt, in denen Herstellungstechniken und kulturelle Einflüsse behandelt werden. Ein Rapport ist eine in sich abgeschlossene, gestaltete Einheit, die in der Wiederholung ein Muster ergibt. Diese sich wiederholenden Formelemente können mit Hilfe geometrischer Gesetzmäßigkeiten durch Verschiebung, Drehung, Spiegelung und Kombinationen zu großen Mustern zusammengesetzt werden. Es wird mit Symmetrien und Geometrien experimentiert.

Vorgehensweise: In drei Schritten werden verschiedene Gestaltungsvarianten erarbeitet und betrachtet. • Symmetrische und geometrische grafische Muster • Inspirationen aus verschiedenen Kulturkreisen • Freie Gestaltung eigener Muster Techniken zur Herstellung von Mustern/ Ornamenten werden analog und am Computer erarbeitet. Neben der Entwurfsarbeit werden einfache Reproduktionstechniken zur Umsetzung der Aufgabenstellung ausprobiert. Abschließend wird ein selbständig gestaltetes Muster auf Textil in Siebdrucktechnik umgesetzt.

Hinweise: Der Kurs richtet sich primär an Studienanfänger (Kommunikationsdesign, Produktdesign, Interfacedesign).

Die Werkstattpraxis findet dienstags und donnerstags statt.

Regelmäßige Teilnahme, Referat, Ideenreichtum sowie saubere und präzise Umsetzung sind u.a. Bewertungskriterien. Zwischen- und Abschlusspräsentation in analoger Form. Dokumentation in analoger und digitaler Form sowie das Referat als PDF müssen zur Abschlusspräsentation vorliegen und abgegeben werden.

Kursbeginn am 22. Oktober 2014, 10:00 Uhr in Raum LW 226. Die Teilnehmerzahl ist auf 15 Personen begrenzt. Über die Teilnahme am Kurs entscheidet das persönliche Erscheinen am ersten Veranstaltungstag. Eintrag über den Workspace.